确实是适配国产90纳米光刻机，在这种情况下突然升级到5纳米。

前后跨度著实不小。

关键还要在两年时间内完成，怎么看都似乎做不到。

毕竟EDA的开发，可是件很庞大的工程，特别是还要针对全新的物理效应。

于是下秒会议室便出现了争论的声音。

「哪怕现在正开发的EDA工具算法，在两年时间内都没有办法完成，更不要说针对极紫外光源的新一代工具。」

「这种可行性确实太渺茫。」

「徐总师我理解你的心情，知道你想要让国家尽快摆脱海外的限制，但必须遵从科学的严谨性。」这句话是孙庆丰同徐铭讲的。

徐铭把大家的反应看在眼里，对此并不意外。

只不过要想赶在海外阿斯麦公司前，推出全新一代极紫外光刻机，就必须要尽快完成整个产业链才行。

但他既然敢这么说，自然是有著一定把握。

下秒当即沉声道：「海外留给我们的时间不多了，我会带领大家争取在两年内完成新EDA算法工具。」